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一种平面抛光装置，包括机架和转动连接于机架上的抛光机，所述机架上设有抛光台和超声清洗台，抛光台和超声清洗台设置于抛光机相对两侧；所述抛光机输出端设有用于放置待抛光件的载物盘；所述抛光台内转动设有旋转件，旋转件上设置有与载物盘相配合的加热盘，机架内设有与旋转件相连接的传动机构；所述机架上还设有用于清洗抛光台的修整环固定机构，机架的一侧设有与抛光台相连通的滴料机构；与现有技术相比，使得加热、清洗和抛光均在同一装置中完成，避免了在抛光过程中将待抛光件更换处理设备，提高了待抛光件的抛光效率，同时加热、清
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117260461A
(43)申请公布日2023.12.22
(21)申请号202311261639.0B24B55/06(2006.01)
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