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本申请公开了一种供液装置及平面涂布设备，属于涂布技术领域，该供液装置包括：本体，具有进液口和连通进液口的分配流道；排针，与本体连接，排针具有注液流道和出液口，注液流道连通于分配流道和出液口之间。从而可以通过进液口向供液装置内持续输入需供应的介质，输入的介质可经由分配流道流入注液流道，从出液口持续且稳定的输出，也就是说，该供液装置能够持续且稳定的输出介质，从而能够应用于线棒刮涂，提升刮涂的距离和刮涂的均匀性。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220215475U
(45)授权公告日2023.12.22
(21)申请号202321387479.X
(22)申请日2023.06.01
(73)专利权人极电光能有限公司
地址214
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