电沉积铜箔的制造方法及由该方法得到的铜箔.pdfVIP

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2023-12-23 发布于四川
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电沉积铜箔的制造方法及由该方法得到的铜箔.pdf

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一种用于生产电沉积铜箔的方法，其毛面的RzISO为0.8μm或以下，所述电沉积铜箔在包括旋转的辊状阴极、固定阳极和电解质的电铸槽中连续形成。所述电解质包含：铜，优选以铜离子的形式，浓度为至少60g/L；浓度在30至50ppm之间的卤素离子；浓度为5至15ppm之间的3‑巯基‑1‑丙烷磺酸钠；浓度为5至12ppm之间的含氮聚合物流平剂，该含氮聚合物流平剂的平均分子量Mw为1000至30000g/mol之间；以及浓度为15至30ppm之间的聚醚抑制剂，该聚醚抑制剂的平均分子量Mw为500至1200

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117280080A

(43)申请公布日2023.12.22

(21)申请号202280033267.3(74)专利代理机构北京方迪誉诚专利代理有限

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