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一种优化化学镀金析出的ITO走线设计方法.pdf

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    本发明涉及电容式触摸屏走线设计，尤其涉及一种化学镀金析出的ITO走线优化设计方法。优化化学镀金析出的ITO走线设计方法，包括ITO玻璃的待镀金部分和不镀金部分，所述待镀金部分和不镀金的驱动区蚀刻有走线，所述不镀金的驱动区覆盖有镀金保护膜，之后通过化学镀金工艺对每块触控玻璃的走线进行镀金；其在镀金不容易析出的地方附近区域且位于所述ITO玻璃上的非走线部分设置独立的镀金处理诱导件；所述镀金不容易析出的地方为镀金处理面积小的区域；所述独立的镀金处理诱导件为设置在所述ITO玻璃上的独立的ITO图形。本发

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN106325629A

    (43)申请公布日2017.01.11

    (21)申请号201510386929.7

    (22)申请日2015.07.06

    (71)申请人湖州胜僖电子科技有限公司

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