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本发明提供曝光装置及物品制造方法。有利于兼顾投影光学系统的光学性能的校正性能与生产率。曝光装置具有:投影光学系统,将掩模的图案投影到基板;供给部,将折射率互不相同的多种气体以预先设定的混合率即设定混合比来混合而得的混合气体供给到投影光学系统的内部的光学元件间的空间;控制部,通过控制设定混合比来对投影光学系统的成像特性进行校正并对基板进行曝光。控制部获取表示供给部以固定的混合比供给混合气体时的成像特性的演变的响应特性,控制部在将设定混合比设定为目标混合比并对基板进行曝光时,在成像特性转变为稳定状态
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN112099318A
(43)申请公布日
2020.12.18
(21)申请号20201
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