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一种气体辅助抛光系统的装置及其使用方法.pdfVIP

一种气体辅助抛光系统的装置及其使用方法.pdf

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    本发明属于气体辅助抛光技术领域，提供了一种气体辅助抛光系统的装置及其使用方法，包括支撑架，支撑架的顶端固定连接有支撑板，支撑板的外侧壁安装有仪表盘，加压机构，加压机构设置在支撑架的顶端，加压机构还包括注水机构、换气机构；本发明通过利用疏水膜接触系统制备气体过饱和溶液，整个CMP系统都容纳在密封的压力罐内，可避免气体过饱和溶液中气体溶解量与大气环境下溶液接触空气时存在偏差，在抛光过程中可以改变抛光罐中的压强，在工业上可以大大增加生产效率，本发明通过纳米气泡辅助方法有可能适用于所有浆料，可这些气泡可

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117325069A

    (43)申请公布日2024.01.02

    (21)申请号202311497643.7

    (22)申请日2023.11.11

    (71)申请人福建理工大学

    地址350100

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