涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法及系统.pdfVIP

涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法及系统.pdf

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本发明提供了一种涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法及系统，包括：步骤S1：判断处于空闲状态的所有工艺单元的使用状态；步骤S2：根据工艺单元的使用状态选择最优工艺单元作为加工程序路径执行工艺。本发明可有效避免工艺单元的重复使用或者不使用状况，提高设备的使用周期。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117331291A

(43)申请公布日2024.01.02

(21)申请号202311629709.3

(22)申请日2023.12.01

(71)申请人上海红岩临芯半导

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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用户编号：5333241143000144

认证主体北京中献电子技术开发有限公司

IP属地四川

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