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本发明实施例公开了一种薄膜沉积设备和方法，通过将位于喷淋板远离加热盘一侧的挡板的边部设置为朝靠近加热盘的方向延伸，且边部的内环壁和喷淋板的外环壁之间的间隙作为第一清洗气道，然后将反应气输送管路和清洗气输送管路分别与挡板的第一通道和第二通道连通，由于第一通道与喷淋板连通，因此反应气输送管路能够朝喷淋板输入反应气，而由于第二通道与第一清洗气道连通，因此清洗气输送管路能够朝第一清洗气道输入清洗气，这样反应气输送管路输入反应气进行薄膜沉积的同时还通入清洗气，清洗气从第一清洗气道能够吹向加热盘的边缘，从而
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117344291A
(43)申请公布日2024.01.05
(21)申请号202311575584.0
(22)申请日2023.11.23
(71)申请人拓荆科技(上海)
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