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用于在半导体处理期间产生磁场的设备.pdfVIP

用于在半导体处理期间产生磁场的设备.pdf

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    一种用于沉积材料的等离子体气相沉积(PVD)腔室包括用于在沉积期间影响基板边缘区域中的离子轨迹的设备。该设备包括反射器组件及多个永磁体，该反射器组件围绕基板支撑件并被配置为在沉积于基板上的材料回流期间将热反射到基板，该多个永磁体嵌入反射器组件中，该多个永磁体被配置为在沉积工艺期间影响基板的边缘区域上的离子轨迹，该多个永磁体围绕反射器组件对称地间隔开。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117355628A

    (43)申请公布日2024.01.05

    (21)申请号202280036821.3(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理

    (22)申请日2022.04.

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