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本申请公开了一种热点识别系统，该热点识别系统用于至少部分地基于描述光刻掩模的掩模布局数据和制作期间的制造参数的分布，生成用于能够利用至少一个光刻掩模制作的集成电路的结构的过程变异性带。热点识别系统可以利用过程变异性带来识别与集成电路中的热点对应的结构的子集，并识别对应的与识别出的热点相关联的制造参数的值。晶片测试系统可以通过将与制作的集成电路相关联的测量的制造参数和与识别出的热点相关联的制造参数的值进行比较，并且基于比较来动态地识别对与识别出的热点相关联的一个或多个结构相对应的制作的集成电路的处
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117355797A
(43)申请公布日2024.01.05
(21)申请号202180098458.3(74)专利代理机构华进联合专利商标代理有限
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