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一种基板处理装置和基板处理方法。在基板处理方法中，向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液，对基板进行处理，即使是该基板处理方法包括使基板低速旋转的工序的情况下，也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中，在正型显影处理之际，使分配部上升，将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导，在负型显影处理之际，使分配部下降，将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶，以使在负型显影处理之际
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN107785292A
(43)申请公布日
2018.03.09
(21)申请号20171
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