声表面波装置的形成方法.pdfVIP

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2024-01-06 发布于四川
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声表面波装置的形成方法.pdf

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一种声表面波装置的形成方法，包括：提供待处理结构，待处理结构包括压电层、位于压电层上的电极材料层、以及位于部分电极材料层上的图形化的光刻胶层；以光刻胶层为掩膜，采用干法刻蚀工艺对电极材料层进行刻蚀，形成电极层；在干法刻蚀工艺之后，对待处理结构进行若干次等离子体处理，等离子体处理包括：采用水汽的等离子体对待处理结构进行第一清洗处理；采用氧气的等离子体对待处理结构进行第二清洗处理；在若干次等离子体处理之后，去除光刻胶层；在去除光刻胶层之后，对待处理结构进行第三清洗处理，减少对声表面波装置的电极层的腐

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117353701A

(43)申请公布日2024.01.05

(21)申请号202311236919.6

(22)申请日2023.09.22

(71)申请人常州承芯半导体有