一种高耐候遮光膜及其制备方法.pdfVIP

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2024-01-10 发布于四川
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一种高耐候遮光膜及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种高耐候遮光膜及其制备方法，涉及遮光膜技术领域，包括以下成分制成：聚对苯二甲酸乙二醇酯、改性插层膨润土、炭黑、片状二氧化硅、乙烯基三(β‑甲氧乙氧基)硅烷)、碳纤维、抗氧化剂、羟基硅油、纳米二氧化钛；本发明制备的高分子聚合物遮光膜不仅具有较低的透光率，同时，还具有优异的耐候性，能够大幅度的延缓了老化进程。通过各组分的协同作用，当光线进入到高耐候遮光膜内后，会被高耐候遮光膜内的改性插层膨润土、炭黑、纳米二氧化钛各粒子表面或发生散射或发生吸收作用，在散射作用的效应下，能够使得光线在介质

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117362955A

(43)申请公布日2024.01.09

(21)申请号202311510088.7C08K3/34(2006.01)

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