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本发明涉及废气净化技术领域，一种半导体生产废气处理工艺，该工艺包括：预处理，将对象引入前置机构中参与前置除尘处理；混气处理，将所述前置机构输出的对象引入混气机构中参与缓流降速处理；净化处理，将混气机构输出的对象引入到净化机构中参与等离子体燃烧净化处理；冷却处理，将净化处理输出的对象引入到冷却机构中进行冷却处理；排放处理，将冷却机构输出的对象经外排机构外排。本发明有利于解决现有一些等离子净化设备在处理废气时存在杂质清楚难、气流量变化导致净化效果拨动的问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117357991A
(43)申请公布日2024.01.09
(21)申请号202311561329.0
(22)申请日2023.11.22
(71)申请人厦门钧摩芯半导体
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