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本发明公开了一种实现单分子探测的碲化镓基表面增强拉曼基底及其制备方法,基底结构从下至上依次为Au孔阵列层,二维薄层GaTe层和Au纳米颗粒层,本发明在SiO2/Si基底层上,通过热蒸发的方法生长Ti层或Cr层,利用光刻和微纳加工方法制备Au孔阵列层,利用机械剥离的方法制备二维薄层GaTe层,并利用转移平台转移到Au孔阵列层上,最后将基底浸没在HAuCl4溶液中制备Au纳米颗粒层。本发明得益于GaTe材料较高的缺陷密度,在二维薄层GaTe层上自组装形成的金纳米颗粒层覆盖率能达到98%,此基底对R6
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111650177A
(43)申请公布日
2020.09.11
(21)申请号20201
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