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本发明公开一种淬火工艺中流场均匀的冷却装置，包括外槽和导流筒，其中：a)导流筒置于外槽内并浸泡在淬火冷却液中；b)导流筒设有导流片组和环形稳流支撑架；c)中心导流片组的下部设有对应入口并与独立引流管对接，其外端设有与淬火冷却液沟通的循环泵；d)中心导流片组中至少设有三个环形导流片，各外围导流片组中至少设有三个弧形导流片，相邻弧形导流片之间形成一个围绕中心导流片组的等宽环槽；e)环形稳流支撑架的边框内为均匀分布的正六边形蜂巢孔。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN108796186A
(43)申请公布日
2018.11.13
(21)申请号20181
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