原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开了一种双相HfMoNbZr高熵碳化物薄膜及其制备方法，属于高熵碳化物薄膜技术领域，该薄膜通过使用直流磁控溅射技术共溅射四元合金靶和石墨靶，制备出的薄膜致密且具有柱状晶结构，薄膜中各元素的原子百分比含量经计算分别为Hf18.34%~21.01%、Mo16.02%~18.23%、Nb15.54%~17.52%、Zr16.23%~17.81%、C25.43%~33.87%。本发明通过在高熵合金薄膜中掺杂碳元素，可以有效改善高熵合金薄膜的力学性能和耐磨性，制备出的高熵碳化物薄膜具有较
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117364040A
(43)申请公布日2024.01.09
(21)申请号202311335266.7
(22)申请日2023.10.16
(71)申请人贵州大学
文档评论（0）