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本发明涉及电致变色材料技术领域，具体公开了一种通电不透光电致变色薄膜制备方法，包括以下步骤：S01、镀膜之前将基底放置到清洗液中进行超声清洗、用氮气烘干之后置于真空室中；S02、采用磁控溅射方法依次溅射沉积第一氧化物层、金属层、第二氧化物层；S03、对经过步骤S02的产品进行真空退火处理，得到电致变色薄膜；其中，所述第一氧化物层和第二氧化物层材料包括质量比为85‑90：8‑10：6的改性氧化铟、氧化锡、五氧化二钒；本发明利用多孔结构能够消除弯折过程的内应力，提升弯折稳定性，同时提高膜响应速度，且
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117364044A
(43)申请公布日2024.01.09
(21)申请号202311371228.7C23C14/18(2006.01)
(22)申请日2023.10.
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