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集成电路工艺刻蚀课件xx年xx月xx日

目录CATALOGUE集成电路工艺刻蚀概述集成电路工艺刻蚀技术集成电路工艺刻蚀材料集成电路工艺刻蚀设备与工艺流程集成电路工艺刻蚀的挑战与未来发展

01集成电路工艺刻蚀概述

在集成电路制造过程中，通过物理或化学方法将材料去除或改变的过程，以达到电路设计的图案化。集成电路工艺刻蚀刻蚀是集成电路制造中的关键环节，它决定了电路的精细度和性能，对整个集成电路的性能和可靠性有着至关重要的影响。重要性集成电路工艺刻蚀的定义与重要性

利用物理能量（如离子束、等离子体）将材料表面原子或分子轰击出来，从而实现材料的去除。物理刻蚀化学刻蚀刻蚀选择比利用化学反应将材料表面溶解