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本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质，本发明的仿真坏点的修正方法包括以下步骤：提供一掩模版图，获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置；获取该掩模版图对应的设计版图，获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形，得到修正后的新设计版图；对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据；基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证，若仍存在仿真坏点，则持续修正设计版图仿真坏点处图形，直到仿真坏点完全修复；若无仿真坏点，则坏点已解决，输出最终设计版图。从设计版图入手对仿
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117391040A
(43)申请公布日2024.01.12
(21)申请号202311277940.0
(22)申请日2023.09.28
(71)申请人东方晶源微电子科
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