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- 2024-01-13 发布于四川
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本申请涉及碳化硅气相沉积设备的技术领域,具体公开了一种碳化硅化学气相沉积炉的进气装置及其使用方法。该进气装置包括依次设置的MTS储液罐、液体流量控制装置、预热装置、低压气化室、低压匀气罐,所述低压气化室通过真空泵与低压匀气罐连接,所述低压匀气罐通过真空泵与反应腔室连接;MTS自MTS储液罐依次经预热装置、低压气化室、低压匀气罐进入反应腔室。本申请实现反应物气体量实时的灵活可控,配合载气通入量,达到比例任意可调且稳定的目的,可长时间稳定作业,并突破了作业时长受MTS最大存储量的限制。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117385340A
(43)申请公布日2024.01.12
(21)申请号202311626556.7
(22)申请日2023.11.30
(71)申请人北京亦盛精密半导体有限公司
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