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本申请涉及一种束流分布监测装置、分子束外延设备及束流分布监测方法，属于半导体外延技术领域。包括：监测部件，用于监测源炉喷射的束流强度，包括位于真空腔室内的测量端和伸出真空腔室的传递端，传递端用于传递监测数据；监测部件能在真空腔室内运动，以调整测量端的测量位置；动力部件，用于驱动监测部件在真空腔室内的运动；动力部件的动力输出端连接监测部件的传递端，并通过对传递端的施力，驱动监测部件在真空腔室内，按预设的多个位置进行多次间歇运动或按预设的速度匀速运动。本申请的技术方案，能更好、更全面的监测真空腔室内
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117406263A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311303443.3
(22)申请日2023.10.10
(71)申请人埃特曼半导体技术有限公司
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