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- 2024-01-17 发布于四川
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本实用新型涉及晶片处理技术领域,尤其涉及一种晶片去污装置。一种晶片去污装置,包括顶部设有固定组件、去污组件的底板,所述底板顶部放置有收集斗,所述固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板的固定架,所述顶板底部设有与固定架相驱动连接的电机,所述托板内部具有固定通槽,所述去污组件包括横杆、与顶板相连接的水箱、位于顶板底部的连接座以及喷水件,所述水箱与喷水件相连通,本实用新型通过固定组件能够对晶片进行固定,并带动其水平转动,通过去污组件能够通过不断竖直摆动喷水件向晶片喷出竖直角度多样的清洁剂,固定组
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220346666U
(45)授权公告日2024.01.16
(21)申请号202321910334.3
(22)申请日2023.07.19
(73)专利权人重庆市雲扬电子科技有限公司
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