GB/T 42789-2023硅片表面光泽度的测试方法.pdf

ICS77.040

CCSH21GB

中华人民共和国国家标准

GB/T42789-2023

硅片表面光泽度的测试方法

Testmethodforglossofsiliconwafer

2023-08-06发布2024-03-01实施

国家市场监督管理总局4非

国家标准化管理委员会也叩

GB/T42789-2023

目。昌

本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第i部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定

起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会CSAC/TC203）与全国半导体设备和材料标准

化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC203/SC2）共同提出并归口。

本文件起草单位：浙江金瑞i弘科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经

济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合品硅

材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高贵太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子

有限公司、巢湖学院、金瑞：－~l科技（衙州）有限公司。

本文件主要起草人：梁兴勃、李琴、张海英、林松青、潘金平、李索青、张雪囡、由f百玲、边永智、庄智慧、

沈辉辉、焦二强、韩云霄、徐志群、付明金、詹玉峰、王可胜。

GB/T42789-2023

硅片表面光泽度的测试方法

1范围

本文件描述了采用光反射法以20°,60°或85。几何条件测试硅片表面光泽度的方法。

本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有圆形的桂片的测试。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文

件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于

本文件。

GB/T9754色襟和清漆不含金属颜料的色漆漆膜的20。、60。和85。镜面光j擎的测定

GB/T14264半导体材料术语

.JJG696-2015镜向光泽度计和光泽度板

3术语和定义

GB/T9754和GB/T14264界定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1

光泽度gloss

对于规定的光源和接收角，从物体镜向方向反射的光通量与从折射率为1.567的黑玻璃镜向方向

反射的光通量之比。

注1：为了确定镜向光泽的标皮，对于20。、60。和85。几何角皮衍射率为1.567的抛光然玻碗，规定其光泽肢值

为100。

注2对双丽硅抛光片背丽光泽度的评价是以抛光片jf丽光泽度为基准计算的。

4方法原理

在规定入射角和规定光柬的条件下，人射光经过透镜照射到样品表面，得到镜向反射角方向的光

束，此时，反射光强度由样品材料表面性质决定，接收器收集样品反射光，与标准表丽反射光强度对比、

计算，最终得到样品的表面光泽度。光泽度测试光路示意图见图1。

GB/T42789-2023

标引序号说明：

G一一光源；

LI、L2一一透镜；

B一一接收器视场光闹；

p－一被1m『样品：

e,一一入射角；

02一反射角；

σ。一一接