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在根据本发明示例性实施方式的接触结构和包括该接触结构的显示装置中，通过将接触孔的尺寸(或面积)设计成大于接触面积并根据下部层的特性应用不同的结构，可与接触孔的尺寸无关地设计像素。因此，接触孔的尺寸增加，使得可很容易应用半色调掩模，且可有利地减少掩模的数量。此外，像素设计中金属的自由度增加，使得可以以高分辨率模式设计像素，且在不需要电极裕度的条件增加了下开口率。接触结构包括：下部层；位于下部层上的至少第一绝缘层，第一绝缘层具有预定接触孔以暴露下部层的一部分；和位于第一绝缘层上以通过接触孔与下部层接
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117438433A
(43)申请公布日2024.01.23
(21)申请号202311439251.5
(22)申请日2018.06.06
(30)优先权数据
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