- 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开了一种铌酸锂微纳结构、用于形成其的干法刻蚀方法及其应用。所述干法刻蚀方法包括:提供铌酸锂基体;在其表面形成图案化掩模;利用磁中性环路放电刻蚀方法对铌酸锂基体进行刻蚀处理,形成微纳结构;其中,进行刻蚀处理时,维持铌酸锂基体的温度不低于400℃,且采用间歇循环刻蚀的方式进行。本发明利用磁中性环路放电刻蚀方法在高温下对铌酸锂进行间歇性刻蚀,加快垂直方向的刻蚀速率,且反应的过程中所产生的生成物会受高温影响迅速挥发极大地提高了微纳结构的刻蚀垂直度;能够直接使用光刻胶作为掩模制备具有高深宽比的铌酸
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117446747A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311665381.0
(22)申请日2023.12.06
(71)申请人中国科学院苏州纳
文档评论(0)