一种自动选择曝光时间和物距的光刻对准系统控制方法.pdfVIP

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2024-01-27 发布于四川
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本发明公开了一种自动选择曝光时间和物距的光刻对准系统控制方法，属于曝光设备技术领域。所述方法将目标检测算法引入到聚焦深度法中用于聚焦窗口的确定，通过此聚焦深度法确定最佳物距和最优曝光时间，并将两者相结合，使得聚焦更加准确，稳定性更好；本发明使用了更适合半导体检测的聚焦评价函数来评估图像质量，并确定最优曝光时间，提高了光刻机对准系统的图像处理能力和对位精度。因此，本发明降低了光刻机对准系统中物距和曝光时间调整的复杂性，同时提升了对位精度，可以快速且精确地获取最佳物距和最优曝光时间，可以满足高精度和

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117452784A

(43)申请公布日2024.01.26

(21)申请号202311372799.2

(22)申请日2023.10.20

(71)申请人江苏影速集成电路装备股份有限公

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