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2024-01-27 发布于四川
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本发明涉及晶圆清洗领域，且公开了一种晶圆清洗装置及其清洗方法，有效的解决了目前晶圆上的杂质易沾附在清洗刷上，影响后续清洗刷对晶圆的清洁的问题，包括底座，所述底座的顶端等角度安装有三个夹持转动组件，底座的顶端安装有刷洗清洁组件，刷洗清洁组件包括安装于底座顶端中部的底板，底板的上方设有安装板，安装板的顶端对称安装有两个第二气缸，本发明，通过清洁辊转动，不断带动转动杆朝着与清洁辊转动方向相反的一侧转动，使得除杂刷毛的移动方向与清洁刷毛移动方向相反，除杂刷毛将转动至清洁辊下方清洁刷毛上杂质勾下，方便勾板

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117457537A

(43)申请公布日2024.01.26

(21)申请号202311469924.1B08B1/54(2024.01)

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