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一种光掩膜版的建模方法及装置、存储介质、计算机设备，所述建模方法，建立掩模神经网络模型后，载入光刻图形；对所述光刻图形进行边缘检测，获得边缘图形；将所述边缘图形输入所述掩模神经网络模型，输出光掩膜版上对应的掩膜图形。通过建立掩模神经网络模型，将与光刻图形对应的边缘图形输入所述掩模神经网络模型，通过掩模神经网络模型的计算即可以输出光掩膜版上对应的掩膜图形提高了建模的效率，并且获得与光刻图形对应的边缘图形，即获得所述光刻图形的边缘轮廓，由于边缘图形的数据量相对较小且图形较为简单，能减小掩模神经网络模
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117452764A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311368505.9
(22)申请日2023.10.19
(71)申请人睿晶半导体（宁波）有限公司
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