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2024-01-27 发布于四川
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本实用新型的磁控溅射靶，其包括壳体、靶材、磁力件、极板、气体流道，靶材安装于壳体顶部的敞开口并架设在极板上，磁力件为电磁铁线圈，且通过安装座架设在壳体底部内侧，磁控溅射靶还包括用于将安装座与极板绝缘隔开的绝缘隔垫，气体流道包括流道本体、均流座。本实用新型一方面能够实现磁场强度的可调，以满足不同溅射需求、且增加实用性，同时不仅能够提升靶材的利用率，而且规避了常规溅射靶磁场不均匀，无凹坑产生；另一方面所形成的气体流道由内侧向外侧四周均匀分散实施均匀溅射，同时也不会导致靶材出现部分有效，其他地方都无效

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220393888U

(45)授权公告日2024.01.26

(21)申请号202322023025.0

(22)申请日2023.07.31

(73)专利权人苏州瓴辉光电科技有限公司

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