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本发明提供一种基于光学‑AFM融合的光学元件表面微纳级目标点高效检测方法及系统,涉及微纳制造技术领域,为解决现有技术中AFM检测效率过低,难以满足大口径光学元件表面数量庞大的微纳缺陷的检测需求的问题。包括如下步骤:步骤一、通过光学显微镜获取光学元件全口径图像,步骤二、获得目标点的位置信息,及形态信息与形状信息,对目标点的缺陷类型、是否为污染物及尺寸范围进行分类,步骤三、构建基于卷积神经网络的目标点分类模型,实现对不同尺寸范围的缺陷类型的分类,以及污染物的辨识,步骤四、根据分类精度和AFM检测耗时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117452026A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311391044.7G06V10/82(2022.01)
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