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本申请提供一种清洗装置及清洗设备，涉及清洗技术领域。清洗装置包括托盘和清洗组件，所述托盘为中空结构，且能够与外部真空系统连接，所述托盘的一侧设置有多个容纳槽，所述容纳槽用于放置待清洗件，所述清洗组件包括药液槽、泵体和输液管路，所述药液槽内用于放置清洗溶液，所述泵体与所述输液管路连接，所述输液管路的一端与所述药液槽连通，所述输液管路远离所述药液槽的一端朝向所述待清洗件。本申请改善手动清洗导致清洗效率低、产品良率无法管控的问题。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220387272U
(45)授权公告日2024.01.26
(21)申请号202321919008.9
(22)申请日2023.07.20
(73)专利权人厦门思坦半导体有限公司
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