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本发明属于背接触电池制备技术领域,具体涉及一种背接触电池的一次退火制备方法,包括如下步骤:S1、提供双面抛光的硅片;S2、采用管式多晶硅沉积炉,在硅片背面依次沉积第一半导体层和第一掩膜层,该步骤不进行退火;S3、在背面进行第一次刻蚀开口,形成第二半导体开口区;S4、采用管式多晶硅沉积炉,在背面依次沉积第二半导体层和第二掩膜层,该步骤不进行退火;S5、然后进行高温退火;S6、采用激光去除S5所得硅片正面的绕镀层;S7、对硅片正面进行制绒清洗,并去除背面的第二掩膜层。本发明大幅简化了工艺流程,减少了
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117457803A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311765641.1
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人金阳(泉州)新能源科技有限公司
地
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