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本发明公开了一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置。送气设备包括：载气源，通过管路连接前驱体源，用以向反应腔送入前驱体源，以使前驱体源沉积在晶圆表面；以及第一气体切换装置，其输入端连接反应气源和第一保护气源，输出端连接反应腔，其中，第一气体切换装置在晶圆表面沉积前驱体源时，将第一保护气体通入反应腔，并在晶圆表面完成前驱体源的沉积操作后，切换反应气源和所述第一保护气源，将反应气体通入反应腔，以执行沉积工艺的后续步骤。通过上述送气设备，不仅能够避免切换气体的瞬间发生反流情况，并且还能够在沉积工
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117448782A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311587901.0
(22)申请日2023.11.24
(71)申请人拓荆科技(上海)有限公司
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