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一种紫外成像系统像质检测中点扩散函数的测量方法.pdfVIP

一种紫外成像系统像质检测中点扩散函数的测量方法.pdf

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    本发明提供了一种紫外成像系统像质检测中点扩散函数的测量方法，属于晶圆检测领域，测量方法包括搭建显微成像系统、构建平面基底上单元纳米结构的暗场散射场分布的数值计算模型、显微成像系统中点扩散函数测量精度和可靠性判断和确定显微成像系统的点扩散函数在应用场景中的最优测量参数。本申请通过采用暗场散射成像方式进行成像系统的点扩散函数测量，可提高点扩散函数测量结果的信噪比。针对紫外至深紫外成像系统，通过选取特定材料、设计纳米结构、优化数值仿真计算模型，可以提供构建较理想等效点辐射源的方案，从而保证系统点扩散函

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117470509A

    (43)申请公布日2024.01.30

    (21)申请号202311815622.5

    (22)申请日2023.12.27

    (71)申请人苏州矽行半导体技术有限公司

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