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本申请公开了一种薄膜沉积设备,包括:工艺腔、磁流体加热器、悬浮稳定装置和旋转传动装置;磁流体加热器包括平台和旋转基座;旋转基座连接平台下部,旋转基座可带动磁流体加热器旋转;悬浮稳定装置包括分别设置于工艺腔和磁流体加热器上的磁铁对;旋转传动装置包括设置于磁流体加热器上靠近工艺腔的表面的若干第一旋转永磁铁、设置于工艺腔底部的旋转台,以及设置于旋转台中的若干第二旋转永磁铁;旋转台通过第一旋转永磁铁和第二旋转永磁铁的相互作用带动磁流体加热器旋转。本申请通过引入由磁体旋转传动结构供能的磁流体加热器,结合磁
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117467962A
(43)申请公布日2024.01.30
(21)申请号202311827358.7C23C16/44(2006.01)
(22)申请日2023.12.
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