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用于微光刻光掩模的缺陷的电子束诱导处理的方法.pdfVIP

用于微光刻光掩模的缺陷的电子束诱导处理的方法.pdf

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    一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D)的电子束诱导处理的方法，包括以下步骤：a)为了修复缺陷(D)，在所述光掩模(100)的缺陷(D)的区域(112)中提供(S1)处于第一加速电压(EHT1)的激活电子束(202)和处理气体，以及b)为了确定修复的缺陷(D)的质量，通过以不同于所述第一加速电压(EHT1)的至少一个第二加速电压(EHT2、EHT3、EHT4)提供电子束(202)，产生(S2)所述光掩模(100)的至少一个图像(110)，其中所述缺陷(D)的区域(112)至少部分被捕获。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117471845A

    (43)申请公布日2024.01.30

    (21)申请号202310928138.7C23F1/12(2006.01)

    (22)申请日2023.07.2

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