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本发明属于激光加工技术领域,具体涉及一种利用激光对半导体退火的设备,包括机架、激光光源、晶圆载台、驱动部和光线整形部件;机架上设有动力部和移动平台,动力部用于驱使移动平台沿机架直线运动;移动平台上设有反射镜;晶圆载台上设有收拢机构,收拢机构包括环形套、电磁铁和多根固定在晶圆载台侧壁上的支杆,电磁铁位于环形套的下方;多根支杆沿晶圆载台的周向均匀分布;晶圆载台上设有一端与环形套连接的弹性件;支杆上转动连接有伸缩杆,伸缩杆的下端铰接在环形套上。在本方案中收拢机构的设置能保证晶圆最终都位于晶圆载台的中心
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117497470A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202311252351.7
(22)申请日2023.09.26
(71)申请人温州大学
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