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一种衬底处理系统包括第一室，该第一室包括衬底支撑件。喷头布置在所述第一室上方并被配置成过滤离子且将来自等离子体源的自由基输送到所述第一室。所述喷头包括：传热流体分配腔，其包括用于接收传热流体的入口和用于将所述传热流体引导穿过所述喷头的中心部分到达出口以控制所述喷头的温度的多个流动通道；辅助气体分配腔，其包括用于接收辅助气体的入口和用于将所述辅助气体注入所述第一室的多个辅助气体注入器；和穿过所述喷头的多个通孔。所述通孔不与所述传热流体分配腔连通，也不与所述辅助气体分配腔流体连通。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117497451A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202311212678.1(51)Int.Cl.
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