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本公开提供了通过在所有喷嘴之中将特定区域中的喷嘴作为不使用的喷嘴处理来重构补偿喷嘴图的基板处理装置及方法。基板处理装置包括：工艺处理单元，在基板被处理时支承基板；喷墨头单元，包括多个喷嘴，并且向基板上喷出基板处理液以处理基板；门架单元，使喷墨头单元在基板上移动；以及控制器，控制喷嘴，其中，控制器通过不使用正常喷嘴来补偿异常喷嘴。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117485024A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202310921407.7H01L21/67(2006.01)
(22)申请日2023.07.
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