一种均流电镀装置.pdfVIP

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本实用新型公开了一种均流电镀装置,包括储液槽和电解槽,所述储液槽通过底端的进液管道与所述电解槽导流连接,所述电解槽通过两端的溢流孔和回流管道与所述储液槽回流连接,所述进液管道上设有流量泵,所述储液槽设有恒温加热装置,所述电解槽设有阳极板和阴极板,所述阳极板和所述阴极板分别与稳流电源的正极和负极相连接,通过流量泵提供稳定的进液流速,以及通过底部进液的方式和均匀分散的出液口,保证了电解槽进液的均匀性和稳定性,从而使得铜箔在阴极板上均匀生长,进而达到较好地解决铜箔各个位置性能的差异性问题。

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220433018U

(45)授权公告日2024.02.02

(21)申请号202321917168.X

(22)申请日2023.07.20

(73)专利权人九江德福科技股份有限公司

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