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- 2024-02-07 发布于四川
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本发明公开了一种硅铝靶材以及单银可钢化镀膜玻璃，上述硅铝靶材由如下质量百分比的原料构成：硅95～98:铝2～5。本发明还公开了一种单银可钢化镀膜玻璃，包括从下到上依次贴合设置的玻璃基底、第一电介质层、第三介质层、第五阻挡层、功能银膜层、第六阻挡层、第四介质层和第二电介质层；所述第二电介质层的表面还设有由硅铝靶材磁控溅射而成的真空镀膜层，本发明的一种硅铝靶材以及单银可钢化镀膜玻璃，其中硅含量95％～98％，铝含量2％～5％，由此含量制成的硅铝靶材被磁控溅射到玻璃表面成膜后，可以获得较好的抗氧化及耐
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117512538A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311311034.8C22C28/00(2006.01)
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