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一种光学邻近效应的修正方法,包括:提供初始光学临近修正模型;提供若干测试图形;对若干所述测试图形进行分组,得到若干测试图形组,各所述测试图形组中包括至少一个测试图形;获取每一组内任意数量的测试图形为最终测试图形;根据所述最终测试图形获取光刻图形,所述光刻图形与所述最终测试图形一一对应;根据所述光刻图形获取拟合参数;根据所述拟合参数对所述初始光学临近修正模型进行拟合,获取光学临近修正模型。所述方法提高了效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117518726A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202210911091.9
(22)申请日2022.07.29
(71)申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限
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