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- 2024-02-07 发布于四川
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本申请实施例公开了一种半导体器件,该半导体器件包括依次层叠设置的绝缘衬底、第一栅极、第一栅绝缘层、牺牲层、流平层、有源层、第二栅绝缘层、第二栅极,流平层、牺牲层、第一栅绝缘层围绕形成有第一凹槽,第一凹槽的开口朝向第二栅绝缘层设置,第二栅绝缘层设置有第二凹槽,第二栅极设置于第二凹槽内,第一栅极关于一中心线呈对称设置,第二栅极关于该中心线呈对称设置;使第二栅极设置于第二凹槽内,通过第二凹槽对第二栅极进行定位,使得第一栅极与第二栅极关于同一中心线呈自身对称设置,实现第一栅极与第二栅极的自对准,缓解了现
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117525161A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202310643221.X
(22)申请日2023.05.31
(71)申请人武汉华星光电技术有限公司
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