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本发明提供了一种离子注入机以及离子注入方法，所述离子注入机包括：靶盘，包括多个沿圆周布置的晶圆放置位，所述靶盘以小于200转/分钟的速度旋转；注入离子源，朝向所述靶盘，沿靶盘的径向对置于晶圆放置位的晶圆表面进行扫描式离子注入，扫描频率大于500Hz。本发明靶盘不再需要沿着垂直于离子注入的方向上下移动实施机械扫描，极大的简化了大盘的运动机构和加工难度。扫描频率设定为大于500Hz的高频扫描，并且靶盘以小于200转/分钟的速度旋转，注入的均匀性仍能满足工艺要求。并且避免了过扫的剂量损失，离子注入机的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117524824A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311630169.0H01L21/687(2006.01)
(22)申请日2023.11
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