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基于湿法蚀刻的光掩模板制作方法.pdfVIP

基于湿法蚀刻的光掩模板制作方法.pdf

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    本发明涉及一种基于湿法蚀刻的光掩模板制作方法，包括湿法蚀刻步骤和去光阻步骤，在所述湿法蚀刻步骤和所述去光阻步骤之间还包括线宽预量测步骤：预先量测指定图形的线宽尺寸，得到线宽预量测尺寸，并根据线宽预量测尺寸判断是否需要进行蚀刻补偿，如果需要则进行蚀刻补偿后再进入所述去光阻步骤，如果不需要则直接进入所述去光阻步骤。本实施例提供的光掩模板制作方法，与传统的方法相比增加了线宽预量测步骤以及蚀刻补偿步骤，通过提前预判去光阻之后的线宽是否满足客户需求，以及在不满足需求时通过蚀刻补偿的方式进行补救，大大降低了

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117518712A

    (43)申请公布日2024.02.06

    (21)申请号202311636271.1

    (22)申请日2023.12.01

    (71)申请人兴华芯（绍兴）半

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