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一种掩模优化验证方法、系统及存储介质.pdfVIP

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  • 2024-02-07 发布于四川
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一种掩模优化验证方法、系统及存储介质.pdf

    本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种掩模优化验证方法、系统及存储介质，本发明的一种掩模优化验证方法包括：输入光学临近修正后的掩模版图及待检测辅助图形，仿真模拟待检测辅助图形再检测获取检测结果；筛选检测结果中曝光的辅助图形；对筛选出的辅助图形依次进行数据的优化，数据优化结果与辅助图形成像结果关系的检查；对数据优化结果与辅助图形成像结果关系检查后的辅助图形依次进行掩模规则检查与是否曝光筛选；对掩模规则检查后不满足要求及曝光的辅助图形，进行基于优化检查及掩模规则检查的持续迭代；输出无曝光的辅助图形及掩

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117518706A

    (43)申请公布日2024.02.06

    (21)申请号202311498072.9

    (22)申请日2023.11.10

    (71)申请人深圳晶源信息技术有限公司

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