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横向型真空沉积装置以及用于其的源块和源组件.pdfVIP

横向型真空沉积装置以及用于其的源块和源组件.pdf

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    本发明涉及横向型真空沉积装置以及用于其的源块和源组件。公开了可以简化横向型真空沉积装置的源块以及使用其的横向型真空沉积装置。源块具有预定形状。在横向型真空沉积装置中，衬底和源块可以彼此面对。因此，包括源块的横向型真空沉积装置没有用于将蒸发源传递至喷嘴的导管，从而简化了装置的结构。特别地，源块可以具有至少10％的可见光透射率并且可以在横向型真空沉积处理期间表现出优异的形状保持能力。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN111020486A

    (43)申请公布日

    2020.04.17

    (21)申请号20191

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