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本申请提供一种显示面板的制备方法及显示面板,先形成沟道层,在沟道层上形成初始欧姆接触层,然后形成覆盖初始欧姆接触层的牺牲层,并形成覆盖部分所述牺牲层的光阻,光阻具有对应所述初始欧姆接触层上方的端部。接着对光阻和暴露的部分牺牲层进行等离子工艺,使牺牲层暴露的表面变质成为掩模层,且光阻的表面被灰化形成与掩模层间隔的第一间隙。最后,基于第一间隙对初始欧姆接触进行刻蚀,以形成贯穿初始欧姆接触层的第二间隙,第二间隙暴露出的部分沟道层为沟道层的沟道,之后去除牺牲层和所述光阻。本申请通过等离子体工艺形成特征尺
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117524981A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202310757357.3
(22)申请日2023.06.25
(71)申请人TCL华星光电技术有限公司
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