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本发明公开了一种可平动和转动的激光溅射离子源，包括转动机构、平移机构、靶头和反应源，反应源设置于底座上，靶头设置于转动机构上，转动机构设置于平移机构上，平移机构设置于固定架上，靶头上设置有靶片，靶片与反应源的离子通道相接触。本发明的装置结构设计新颖、紧凑，实现靶片的转动转动和平动，能够对靶片材料进行充分的利用，避免了靶片材料的浪费，降低了成本投入，双进气孔增大了进气量，提高离子冷却速度，可以产生种类更加丰富的离子团簇。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111739786A
(43)申请公布日2020.10.02
(21)申请号202010633272.0
(22)申请日2020.07.02
(71)申请人中国科学院上海应用物理研究所
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